파이퍼 베큠, 실리콘 밸리 혁신 센터 신규 개설

2021-12-14

  • 미래 반도체 기술을 위한 협력
  • 새로운 진공 솔루션 테스트 및 평가
  • 모든 진공 장비에 대한 전문적인 진공 노하우 및 지원

파이퍼 베큠은 분석, 산업 및 연구 개발 시장뿐만 아니라 반도체 시장을 위한 첨단 기술 진공 솔루션의 세계적으로 앞서가는 공급업체 중 하나이며, 12월 10일 산호세에 10,000평방 피트 규모의 신규 실리콘 밸리 혁신 센터(SVIC)를 열었습니다. 이 최첨단 시설은 2381 Bering Drive, San José, CA에 위치하며 20개 이상의 새로운 첨단 기술 일자리를 창출할 예정입니다.

SVIC는 통합 파이퍼 베큠 제품 및 반도체 응용 분야에 집중되는 고진동 기술에 관한 모든 기술적인 질문이 있을 경우 북미 고객을 지원합니다. 고객은 초기 개발 단계에서 해당 응용 분야용으로 설계된 새로운 진공 솔루션을 테스트하고 평가할 수 있을 것입니다. 현장 전문가와 연구원이 모든 파이퍼 베큠 제품에 대해 직접적인 노하우 지원을 제공하며 글로벌 파이퍼 베큠 R&D 조직과 원활한 연결을 맺게 됩니다.

Pfeiffer Vacuum Technology AG의 CEO인 브리타 기젠 (Britta Giesen) 박사는 “실리콘 밸리 혁신 센터의 개설은 반도체 시장에서 고객을 위한 혁신을 이끌고 미래 기술 개발을 지원하겠다는 당사의 의지를 나타냅니다.”라고 말합니다.

진공 기술은 반도체 산업에서 마이크로프로세서, 저장 매체, 고화질 디스플레이 등의 생산에 사용됩니다. 고객은 주로 여러 개의 중형 및 대형 배압 펌프를 사용하지만 터보 펌프 및 측정 계기도 사용합니다. 칩 제조업체는 오염 분석 및 리크 감지 시스템으로 산출량을 크게 증가시킬 수 있습니다.

파이퍼 베큠 북미 영업 부문 부사장인 밍 리(Ming Lee)는 “마이크로프로세서 생산의 복잡성이 계속 증가하면서 실리콘 밸리에 있는 당사 고객과의 직접적인 협력이 점점 더 중요해지고 있습니다.”라고 말합니다. “센터의 전문가 팀과 센터는 고객이 겪는 기술적 문제를 위한 진공 솔루션과 제품을 효율적으로 설계하기 위해 고객과 더욱 긴밀하게 협력하는 데 필수적인 역할을 할 것입니다.”

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