Busch Group 旗下各公司宣布联合亮相于 美国西部半导体展 (Semicon West)
2024-06-26
Busch Group 旗下三家知名公司（Pfeiffer普发、Busch 普旭和 Centrotherm clean solutions）宣布将联合参加 2024 年美国西部半导体展。这标志着一个重要的里程碑，因为这将是 Busch Group 首次在美国集体亮相于同一个展位上。
美国新罕布什尔州纳舒厄，2024 年 6 月 28 日 – 参观者可以期待令人印象深刻的真空技术和减排解决方案的展示，这些技术和解决方案专为支持半导体晶圆厂和子晶圆厂而设计。今年 Semicon West 展会的主题是“凝心聚力，同心奋进”，与 Busch Group 展位上的信息“终极产品系列”和“整体晶圆厂解决方案”完美契合。Busch Group 美国公司总裁 Turgay Ozan 表示：“我们拥有独特的优势，可以成为半导体行业首屈一指的完整解决方案合作伙伴。我们的产品范围广泛，支持从洁净室到子晶圆厂的所有需求，并涵盖气体减排、真空和涡轮分子泵、污染管理、泄漏检测、阀门、子晶圆厂管理并为所有品牌提供服务。”
飞帆真空的磁悬浮涡轮泵
即将亮相的真空技术、减排解决方案的终极产品系列
ASM 392 移动式检漏仪： 普发真空的 ASM 392 符合 SEMI S2 标准，配备集成涡轮分子泵，针对大型测试对象的快速抽空和短的响应时间进行了优化。其干式无摩擦前级泵和强大的高真空泵，使其成为在洁净室环境中进行测试的理想选择。
E系列电动阀：在展会上首次亮相的普发真空 E 系列是一款突破性的电动角阀系列，旨在轻松集成到高真空应用中。E 系列将先进的电动驱动与节能集为一体，提供卓越控制、可靠性，并节省成本。
ATH 2804 M 涡轮分子泵： 普发真空的 ATH 2804 M 磁悬浮涡轮分子泵占地面积小，提供高气体吞吐量，是半导体制造工艺的理想选择。
HiPace 3400 IT 涡轮分子泵： HiPace 3400 IT 专为要求苛刻的离子注入应用而设计，设定了同类产品中最紧凑涡轮分子泵的标准，而不影响性能。其DN 320 法兰尺寸可将工艺气体的泵送能力提高30%。独特的轴承方案和经过特殊涂层的转子设计，能够保护您的工艺和泵，提供无与伦比的耐用性和可靠性。
Torri BD 0100 / 0600 干式泵： Busch 的 Torri BD 的干式多级旋转凸轮真空泵为装载互锁室提供了较短的抽空时间，是市场上体积较小小、质量较轻的节能型干式泵之一 。
CT-TW-H 热消除： centrotherm 清洁解决方案的下一代高温热消除系统将火焰消除的广泛工艺范围与等离子消除的无燃料方面结合在一起，没有任何缺点。CT-TW-H 能够以一流水平破坏分子 NF3分子，同时氮氧化物排放量极低，为 CVD 和金属蚀刻工艺系列提供最小碳足迹的可持续解决方案。
Semicon West 展会的访客可以于 2024 年 7 月 9 日至 11 日在旧金山莫斯康中心南厅 733 号展位，与来自Pfeiffer普发、Busch 普旭和 Centrotherm clean solutions的专家进行交流。
